В Новосибирском государственном университете представили цифровой двойник фотолитографа — технологии, лежащей в основе производства современных микросхем. Разработка стала важным шагом к тому, чтобы микроэлектроника в России меньше зависела от импортных решений и быстрее внедряла инновации.
Фотолитография — ключевой процесс при создании микросхем, когда с фотошаблона на поверхность пластины переносится тонкий рисунок будущих схем. До сих пор многие параметры этого процесса подбирались с опорой на опыт и интуицию инженеров. Цифровая модель позволяет отказаться от догадок и заранее просчитывать все нюансы с высокой точностью.
Разработка НГУ станет инструментом для предприятий Новосибирска и Нижнего Новгорода, занимающихся микроэлектроникой. Цифровой двойник поможет не только ускорить производство, но и снизить вероятность ошибок, сделав выпуск новых микросхем более эффективным. В долгосрочной перспективе это усилит позиции российской микроэлектронной промышленности.
Проект реализуется при поддержке Сбера, что подчёркивает значимость инициативы для экономики. Уже сейчас к нему проявляют интерес предприятия, включая Новосибирский завод полупроводниковых приборов. Это означает, что технология может быть внедрена в производство в ближайшее время.
Создание цифровых двойников для сложных технологических процессов — один из мировых трендов. Для России это особенно актуально, учитывая стремление к технологическому суверенитету. Работа НГУ показывает, что отечественная наука способна создавать конкурентные разработки, имеющие практическую ценность для промышленности.